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NPJ Clean Water|贵州大学吴剑:表面修饰调控电子-空穴分布增强光催化效率

2025-10-03     浏览次数: 10

实验与理论计算揭示COFs材料光催化降解性能提升机制

文章网址:https://www.nature.com/articles/s41545-025-00480-4

研究亮点

 •筛选出CN-306高效光催化剂,在420 nm可见光下实现5352 μmol g-1h-1的过氧化氢产率,表面量子效率达7.27%

 •发现单线态氧(1O2)的过量产生会抑制H2O2积累,为光催化体系优化提供关键理论依据

 •通过DFT计算证明氨基修饰降低HOMO-LUMO能隙(0.5~1.0 eV),显著提升电子-空穴分离效率

 • CN-306与过一硫酸盐(PMS)联用使有机污染物降解速率提升32倍,5次循环后性能保持95%以上

研究背景

过氧化氢(H2O2)作为重要的绿色氧化剂,在环境修复、化工合成和农业生产中具有广泛应用。传统蒽醌法制备工艺存在高能耗、重金属污染等问题,而光催化技术利用太阳能将水和氧气原位转化为H2O2,是理想的绿色合成途径。

然而,g-C3N4等常用光催化剂因光生电荷复合率高,导致活性氧物种生成效率低,难以满足H2O2高效制备与污染物降解的双重需求。贵州大学吴剑课题组创新性地通过分子工程修饰调控共价有机框架(COFs)电子结构,设计出CN-306高效光催化剂,解决了电子-空穴分离效率低的关键难题。

核心发现

课题组通过系统筛选十种g-C3N4基COFs材料,发现对氨基苯甲醛修饰的CN-306具有最优光催化性能:

通过DFT计算与实验验证相结合,研究发现:

 •氨基修饰使电子云密度重新分布,HOMO-LUMO能隙降低0.5-1.0 eV

 •光生电子-空穴对空间分离距离增大,复合率降低40%

 •单线态氧(1O2)会消耗关键中间体·O2-,抑制H2O2生成

 • CN-306比表面积增至83.56 m2g-1,提供更多活性位点

图文赏析

图1| 用DFT计算计算了CN550和CN-306中第一至第五激发态的电子空穴分布。

图2| (a) CN-301~CN-310合成路线示意图;(b) CN550和CN-306的XRD;(c) CN550和CN-306的FT-IR;(d-e) CN-306的SEM和(f-h) TEM图像;(i-k) C, N, F上对应的元素映射。



图3|(a-b) CN550和CN-306的莫特-肖特基图(图中电势值可换算为相对于标准氢电极(NHE)的电势,公式为:E (NHE) = E (Ag/AgCl) + 0.197 V);(c)波段结构对准;(d) CN550和CN-306的稳态PL光谱;(e) CN550和CN-306的时间分辨光致发光光谱;(f)开/关光电流响应;(g)电化学阻抗谱CN550和CN-306的Nyquist周期图;(h) CN550和CN-306的N2吸附等温线;(i) BJH孔径分布。

图4| CN550和CN-301~CN310的HOMO和LUMO。



图5| (a) CN550和CN-306的Mulliken原子跃迁电荷DFT计算;(b) CN550和CN-301~CN-310第一激发态的电子-空穴热图。

图6| (a) CN550和CN-300系列在H2O/EtOH = 9/1条件下制备H2O2的效率;(b)在H2O/EtOH = 3/997条件下,CN550和CN-300系列制备H2O2的效率;(c) 404 nm时CN-306在H2O/EtOH混合物中生成过氧化氢的吸光度随时间变化;(d) CN-306在不同H2O: EtOH混合物中生产过氧化氢的效率;(e) CN-306-PMS降解RhB;(f) CN-306-PMS对FDN的降解。



图7 | (a)过氧化氢生成及有机小分子光催化降解机理;(b-c)CN550和CN-306在黑暗和光照下的EPR比较。



作者简介

第一作者:涂红,绿色农药全国重点实验室2022级博士研究生。以第一作者在Energy & Environmental Materials(IF=14.1)、npj Clean Water(IF=11.4)、Journal of Materials Chemistry A(IF=10.7)、Water Research X(IF=8.2)、Journal of Environmental Chemical Engineering(IF=7.2) Advanced Energy and Sustainability Research(IF=6.2)等发表6篇,Researchgate: https://www.researchgate.net/profile/Hong-Tu-9/research

邮箱: tu1990108@163.com




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