Nova NanoSEM 450 场发射扫描电子显微镜

主要性能和指标：

1、 电子光学系统：

高稳定度肖特基场发射电子枪；放大倍率范围：35-1000000倍，根据加速电压和工作距离的改变，放大位数自动校准。

2、 电子束分辨率

1）高真空模式

（1）1.0nm@15 kV (二次电子像分辨率)

（2）1.4nm@1 kV (二次电子像分辨率，非减速模式)，

（3）3.5nm@0.1 kV (背散射电子像分辨率)

2）低真空模式 ：

1.5nm@10 kV (二次电子像分辨率)；1.8nm@3 kV (二次电子像分辨率)

  3）电子束其他参数

（1）着陆电压：50V ~ 30 kV

（2）电子束流：0.6pA ~ 200 nA，连续可调。

  （3）最大水平视场宽度：4.0mm在5mm工作距离。

3、能谱技术指标

探测器：分析型SDD硅漂移电制冷探测器，晶体面积80 mm² ,活区面积65mm²，高分子超薄窗设计。

封闭式真空系统，无需借助SEM抽放真空。

能量分辨率：Mn Ka保证优于127eV（@计数率130,000cps）； F Ka 保证优于64eV（@计数率130,000cps）；C Ka 保证优于56eV（@计数率130,000cps）；符合ISO 15632:2012标准。元素分析范围：Be4～Cf98。

主要功能和服务范围：

用于细菌或真菌表面形貌的高分辨率成像；也可用于非磁性无机或有机微纳米材料的形貌表征及微区元素分析。